第二十一章 真空镀膜(下)(2 / 2)

一小时后。

真空计示数达到5.2E-5帕,升温程序也进入第二阶段,一切正常。

十二分钟后。

温度示数达到400摄氏度,膜厚仪显示的实时蒸镀速率,在-0.01至0.01埃每秒之间波动,膜厚显示仍为0.00埃。

三分钟后。

温度示数继续增加,直至480摄氏度左右,蒸镀速率开始在0.00至0.03埃每秒之间波动。

当温度达到520摄氏度后,蒸镀速率维持在0.20至0.30埃每秒。

许秋先开启样品台旋转,在等待了约十秒钟后,同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。

钙要蒸镀10纳米的厚度,也就是100埃。

待膜厚仪示数达到100埃时,许秋迅速关闭样品挡板。

随后,他将束源炉升温数控装置关闭,让束源炉自然降温。

最后,将膜厚仪的参数改为铝的参数。

半小时后。

束源炉的温度降低至77摄氏度。

许秋关闭钙的束源炉挡板,打开电流加热装置。

这个加热装置很简单,就是把电源、钨篓、电位器(类似于滑动变阻器)、保险丝、电流计连在一起,通过调节电位器,便可以改变电路中的电流大小。

许秋缓慢扭动电位器的旋钮,使电流计示数从0逐渐增加至18安培。

当电流达到16安培时,膜厚仪上蒸镀速率开始有了示数。

电流达到18安培后,许秋等待了几秒,然后同时打开样品挡板并清零膜厚仪的膜厚计数器。

蒸镀速率则先是从0.2、0.3迅速提升至3.0,随后迅速回落至1.8,之后缓缓下降至1.7,1.6埃每秒……

电流计的示数也会随着时间变化,忽上忽下。

每当其相较于18的偏离值超过1时,许秋就将其调至18。

铝的厚度要求是100纳米,也就是1000埃。

待膜厚仪示数达到1000埃时,许秋迅速按下样品挡板。

然后缓缓扭动电位器,将电流归零。

接着关闭超真空挡板阀,停止分子泵。

等待十分钟后,分子泵转速从27000r.p.m.降至0,关闭其开关。

最后,关闭机械泵,关闭总控台。

…………

“终于结束啦!”许秋长吁了一口气,感慨道。

“这么多操作,居然零失误,厉害呀!”陈婉清竖起了大拇指。

“这都是学姐教的好。”许秋道。

“行啦,别谦虚了,你的科研天赋我心里有数呢。

想想我当初学蒸镀,可是没少让魏老师头疼,不是忘记开空气泵,就是忘开挡板,甚至还有一次忘记放基片了。”陈婉清道。

听到最后一句,许秋没忍住笑了出来,然后看到学姐睁着大眼睛瞪着他,他赶紧把笑容收敛住,面色严肃的向手套箱走去。

他进入手套箱,旋开舱门上下的旋钮,开始拉舱门。

咦,舱门怎么拉不下来?

琢磨了一会儿,许秋懂了,因为蒸镀结束后,舱体内部还是真空状态。

于是他转头看学姐,可她似乎并没有主动解答的意思,还是瞪着他。

“这么记仇啊。”许秋心想。

他只好问道:“学姐,这个怎么弄?”

陈婉清指了指手套箱侧面,最后还是告诉了许秋:

“那边有一个接通氮气瓶的阀门,可以往蒸镀舱内充氮气。”

许秋走过去,果然发现一个阀门。

他轻轻旋开阀门,“嘶嘶”的气流声传来。

10秒后。

20秒后。

30秒后。

没什么动静啊。

“学姐,什么时候停下来呢?”许秋忍不住问道。

“继续放气。”陈婉清面无表情道。

“哦。”

40秒后。

50秒后。

60秒后,正当许秋打算再次发问时。

“砰!”